光通信_爱发科真空技术（苏州）有限公司

1.Batch式高真空蒸发设备ei系列是可对应在基板上成金属膜或氧化物膜的设备。可通过操作面板进行集中控制，实现抽真空、成膜等作业内容的集中自动…

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Batch式高真空蒸发设备Esz系列是可对应在基板上成金属膜或氧化物膜的设备。可通过操作面板进行集中控制，实现抽真空、成膜等作业内容的集中自动化…

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真空溅射镀膜机Load-locktypeSputteringEquipmentCS-200z

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刻蚀设备：NE-550EXz

在高真空条件下，通过RF高频放电，产生等离子体，在偏压的作用下，通过物理和化学的作用，对特定的材料去除。蚀刻材料：金属，GaN，InP，SiO2，Si，…

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刻蚀设备：NLD-570

研究开发向NLD干法刻蚀设备NLD-570，是搭载了爱发科独创的磁性中性线（NLD-neutralloopdischarge）等离子源的装置，此NLD技术可实现产生低压、低电子温度、…

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刻蚀设备：NLD-5700

对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700是搭载了磁性中性线（NLD-neutralloopdischarge）等离子源的量产用干法刻蚀装置。（此爱发科独创的NLD技术设…

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