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机种分类 行业分类 售后产品
  • 蒸发设备：蒸发Ei系列 ei-5z 蒸发Ei系列 ei-5z
    1.Batch式高真空蒸发设备ei系列是可对应在基板上成金属膜或氧化物膜的设备。可通过操作面板进行集中控制，实现抽真空、成膜等作业内容的集中自动…
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  • 蒸发设备：蒸发Ei系列 ei-7z 蒸发Ei系列 ei-7z
    1.Batch式高真空蒸发设备ei系列是可对应在基板上成金属膜或氧化物膜的设备。可通过操作面板进行集中控制，实现抽真空、成膜等作业内容的集中自动…
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  • 蒸发设备：蒸发Ei系列 ei-501z 蒸发Ei系列 ei-501z
    1.Batch式高真空蒸发设备ei系列是可对应在基板上成金属膜或氧化物膜的设备。可通过操作面板进行集中控制，实现抽真空、成膜等作业内容的集中自动…
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  • 蒸发设备：蒸发Esz系列 Esz-R 蒸发Esz系列 Esz-R
    Batch式高真空蒸发设备ei系列是可对应在基板上成金属膜或氧化物膜的设备。可通过操作面板进行集中控制，实现抽真空、成膜等作业内容的集中自动化…
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  • 蒸发设备：蒸发Esz系列 Esz-X 蒸发Esz系列 Esz-X
    Batch式高真空蒸发设备Esz系列是可对应在基板上成金属膜或氧化物膜的设备。可通过操作面板进行集中控制，实现抽真空、成膜等作业内容的集中自动化…
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  • 溅射设备：真空溅射镀膜机 Load-lock type Sputtering Equipment CS-200z 真空溅射镀膜机 Load-lock type Sputtering Equipment CS-200z
    真空溅射镀膜机Load-locktypeSputteringEquipmentCS-200z
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  • 溅射设备：ULDIS系列 ULDIS系列
    1.对于光学薄膜的溅射装置乌尔迪斯布系列，间模式®在数字溅射装置进化技术，实现了光学薄膜的一个更高的质量。2.与美国JDSUniphase达成新的许可协议…
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  • 刻蚀设备：NE-550EXz NE-550EXz
    在高真空条件下，通过RF高频放电，产生等离子体，在偏压的作用下，通过物理和化学的作用，对特定的材料去除。蚀刻材料：金属，GaN，InP，SiO2，Si，…
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  • 刻蚀设备：NLD-5700 NLD-5700
    对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700是搭载了磁性中性线（NLD-neutralloopdischarge）等离子源的量产用干法刻蚀装置。（此爱发科独创的NLD技术设…
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  • PECVD：CC-200Cz CC-200Cz
    在真空条件下，通过射频放电，让气体活化发生化学反应，在基板表面沉积形成薄膜。成膜种类：SiO2，SiNx，SiON。等离子增强型，膜质好，均匀性高，Lo…
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