• 刻蚀设备:INE-3085 INE-3085
    面向LED、Powerdevice、MEMS等诸多领域开发,搭载静电吸附系统,采用更大的静电托盘,较常规设备拥有更高的刻蚀速率和更大的产能。同时搭载ULVAC专利的…
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  • 刻蚀设备:NE-550EXz NE-550EXz
    在高真空条件下,通过RF高频放电,产生等离子体,在偏压的作用下,通过物理和化学的作用,对特定的材料去除。蚀刻材料:金属,GaN,In P,SiO2,Si …
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  • 刻蚀设备:NE-950EX NE-950EX
    在高真空条件下,通过RF高频放电,产生等离子体,在偏压的作用下,通过物理和化学的作用,对特定的材料去除。蚀刻材料:金属,GaN,In P,SiO2,Si …
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  • 刻蚀设备:NE-5700 NE-5700
    量产用刻蚀设备NE-5700是可以对应单腔及多腔、重视性价比拥有扩展性的刻蚀设备,注重性价比。
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  • 刻蚀设备:NLD-570 NLD-570
    研究开发向NLD干法刻蚀设备NLD-570,是搭载了爱发科独创的磁性中性线(NLD- neutral loop discharge)等离子源的装置,此NLD技术可实现产生低压、低电子温度…
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  • 刻蚀设备:NLD-5700 NLD-5700
    对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700是搭载了磁性中性线(NLD- neutral loop discharge)等离子源的量产用干法刻蚀装置。(此爱发科独创的NLD技术…
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