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首页 > 产品中心 > 溅射设备
蒸发设备 溅射设备 刻蚀设备 PECVD
  • 溅射设备：CS-200z CS-200z
    在真空条件下，氩气在DC或RF作用下产生氩离子，高能的氩离子撞击靶材 产生溅射。溅射出的原子或分子离开靶材，沉积在基板表面，形成薄膜。成膜种…
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  • 溅射设备：SME-200 SME-200
    全自动多工艺对应用最大搭载7个工艺腔的溅射设备，可实现多种类材料溅射，诸如高温成膜（PZT等）、高精度侧壁成膜、光学膜、化合物膜、合金膜等…
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  • 溅射设备：ULDIS系列 ULDIS系列
    1.对于光学薄膜的溅射装置乌尔迪斯布系列，间模式®在数字溅射装置进化技术，实现了光学薄膜的一个更高的质量。 2.与美国JDS Uniphase达成新的许可协…
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  • 溅射设备：SIV-500 SIV-500
    用于particle抑制的通过型竖直溅射，可实现基板往复或line式搬送，多用于SiO、SiN等光学薄膜溅射，亦可用于金属溅射。
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