• PECVD:CC-200Cz CC-200Cz
    在真空条件下,通过射频放电,让气体活化发生化学反应,在基板表面沉积形成薄膜。成膜种类:SiO2,SiNx ,SiON。等离子增强型,膜质好,均匀性高,L…
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  • PECVD:CX-500z CX-500z
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