溅射设备：QAM-4W

• 基片直放式，自动运行，操作简单；高真空可对应

• 多元溅射，多元材料对应；8靶对应

• T/S设计固定最佳距离150mm；低损伤，低压成膜

• 基板旋转对应20Rpm，薄膜对应可

• 2~4inch,未定型片,切换兼容；可高温500度对应

• 斜向上溅射,抑制基板颗粒，靶材非直接水冷，靶交换简易

对应石墨烯、传感器、材料开发等领域的超导材料、合金、SiO的等材料的溅射镀膜设备。