刻蚀设备:NE-5700

量产用刻蚀设备NE-5700是可以对应单腔及多腔、重视性价比拥有扩展性的刻蚀设备,注重性价比。

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0512-86669111-8150 李女士
13913550251(沈先生)



产品特性 / Product characteristics



• 除单腔之外,另可搭载有磁场ICP(ISM)或NLD等离子源、去胶腔体、CCP腔体等对应多种刻蚀工艺

• 为实现制程再现性及安定性搭载了星型电极及各种调温技能

• 拥有简便的维护构造,实现downtime最短化,提供清洗、维护及人员训练服务等综合性的售后服务体制

• 专门的半导体技术研究所会提供万全的工艺支持体制



产品应用 / Product application



• 化合物(LED或LD、高频器件)或Power device(IGBT配線加工、SiC加工)

• 金属配线或层间绝缘膜(树脂类)、门电极加工工艺

• 强电介质材料或贵金属刻蚀

• 磁性体材料加工


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