刻蚀设备:NLD-570

研究开发向NLD干法刻蚀设备NLD-570,是搭载了爱发科独创的磁性中性线(NLD- neutral loop discharge)等离子源的装置,此NLD技术可实现产生低压、低电子温度、高密度的等离子。

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13913550251(沈先生)



产品特性 / Product characteristics



• NLD用于与ICP方式相比更低压、高密度、更低电子温度等离子体的石英、玻璃、水晶、LN/LT基板的加工

• 高硬玻璃、硼硅酸玻璃等不纯物的多种玻璃加工,在形状或表面平滑性方面有优异的刻蚀性能

• 石英及玻璃作为厚膜resist mask时的也可实现深度刻蚀(100μ m以上)

• 可实现高速刻蚀(石英>1μ m/min、Pyrex>0.8μ m/min)

• 可追加cassette室



产品应用 / Product application



• 光学器件(光衍射格子、変调器、光开关等等)

• 凹凸型微透镜

• 流体路径作成或光子学结晶


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