刻蚀设备:NE-550EXz

在高真空条件下,通过RF高频放电,产生等离子体,在偏压的作用下,通过物理和化学的作用,对特定的材料去除。蚀刻材料:金属,GaN,In P,SiO2,Si ,Polymide 等材料。Load –lock 式,全自动控制,专利ISM电极,均匀性高,安定性好,构造简单,维护简便。

具体购买政策请致电:
0512-86669111-8033(张小姐)
13913550251(沈先生)



产品特性 / Product characteristics



• 蚀刻均匀性,稳定性优异

• Load –lock式,全自动控制

• 应用广泛SiO2,SiN,金属,化合物等

• 构造简单,维护简便

• 2,4,6,8inch基板兼容,切换便利



产品应用 / Product application



• 功率器件,LED,光通信/传感器,高校及研究所等。


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