爱å‘科真空技术(è‹å·žï¼‰æœ‰é™å…¬å¸å‡ºå±•ç¬¬å二届Chip China晶芯研讨会

作者:网站管ç†å‘˜ã€€æ—¥æœŸï¼š2022-08-01 人气:2846

爱å‘科真空技术(è‹å·žï¼‰æœ‰é™å…¬å¸å‡ºå±•ç¬¬å二届Chip China晶芯研讨会

 

ç”±è‹å·žå·¥ä¸šå›­åŒºä¸ŽACT雅时国际商讯è”åˆä¸¾åŠžçš„第å二届Chip China晶芯研讨会于2022å¹´7月5日在è‹å·žå·¥ä¸šå›­åŒºä¸¾è¡Œã€‚

大会紧密贴åˆè¡Œä¸šæ™ºèƒ½åŒ–å‘展趋势,共商先进åŠå¯¼ä½“制造产业与å°è£…技术ååŒå‘展,共åŒæŽ¢è®¨å…ˆè¿›å°è£…ã€3Då°è£…ã€ä¸‰ç»´å¼‚构系统集æˆã€é•€è†œå·¥è‰ºç­‰æœ€æ–°æŠ€æœ¯å’Œæ–¹æ¡ˆï¼Œå…¨äº§ä¸šé“¾è”动全景呈现å‰æ²¿äº§å“技术和创新解决方案。

(大会开幕å¼ï¼‰

本次大会中爱å‘科真空技术(è‹å·žï¼‰æœ‰é™å…¬å¸ï¼ˆä»¥ä¸‹ç®€ç§°USZ)俞强总ç»ç†æŽ¥å—会议采访,介ç»äº†çˆ±å‘科è‹å·žçš„新技术和产å“,并å‘表了关于åŠå¯¼ä½“芯片短缺ã€äº§èƒ½ã€è®¾å¤‡ã€ææ–™ã€äººæ‰ã€æœ¬åœŸåŒ–ã€è‡ªä¸»å¯æŽ§ç­‰çƒ­ç‚¹é—®é¢˜çš„观点看法。

USZ俞强总ç»ç†è¡¨ç¤ºåŸºäºŽç›®å‰ä¸­å›½æ•´ä¸ªåŠå¯¼ä½“行业环境æ¥çœ‹ï¼ŒåŸºç¡€æ料以åŠæ ¸å¿ƒé›¶éƒ¨ä»¶çš„å¼€å‘和专业人æ‰çš„培养是最关键的。因为基础æ料和核心零部件影å“ç€æˆ‘们整个设备的性能以åŠæ•´ä¸ªè®¾å¤‡ç”Ÿäº§å·¥è‰ºä¸­å¯¹äº§å“的应用,所以接下æ¥æˆ‘们的é‡ç‚¹æ˜¯åŸºç¡€æ料开å‘和核心零部件开å‘。但这些都离ä¸å¼€ä¸“业人æ‰ï¼Œæ‰€ä»¥å¸Œæœ›æ”¿åºœã€è¡Œä¸šå会能够在这一方é¢ç»™äºˆä¼ä¸šæ供更大的支æŒã€‚从而使ä¼ä¸šèƒ½å¤Ÿæ›´é›†ä¸­ç²¾åŠ›çš„去åšåŸºç¡€æ料和核心零部件的开å‘ã€ä»¥åŠä¸“业人æ‰çš„培养,而ä¸æ˜¯å•çº¯çš„ã€çŸ­æœŸçš„ã€ä»¥èŽ·åˆ©ä¸ºç›®çš„去åšè¿™äº›äº‹æƒ…。

(USZ俞强总ç»ç†å—邀接å—现场采访)

USZ沈åšå‰¯æ€»ç»ç†å‘表了题为“普通å°è£…用的薄片镀膜工艺/陶瓷å°è£…用AuSn镀膜工艺“的演讲,ç€é‡ä»‹ç»äº†é…置特殊å©åŸšç³»ç»Ÿå’Œæ™¶æŒ¯ç³»ç»Ÿï¼Œå¯å¯¹åº”厚膜工艺(30μm厚度)的Esz-R-2设备,和超薄片工艺(wafer厚度50μm)的解决方案;以åŠå¯ä»¥å¯¹åº”åˆé‡‘è’¸å‘æˆè†œçš„ei-5zåŒå©åŸšè®¾å¤‡ï¼ˆAuSnæˆåˆ†ç²¾ç¡®æŽ§åˆ¶ï¼‰ã€‚现场答疑环节,观众对演讲内容表示浓厚兴趣,åå“热烈。

 


(沈åšå‰¯æ€»ç»ç†çŽ°åœºå‘表演讲)

åŒæ—¶çˆ±å‘科è‹å·žé¢å‘先进制造与å°è£…技术领域展出了最新技术åŠäº§å“,众多新è€å®¢æˆ·å…‰ä¸´äº†æˆ‘们的展ä½ã€‚

                             (爱å‘科è‹å·žå±•ä½ï¼‰

 


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