PECVD:CX-500z

在真空条件下,通过射频放电,让气体活化发生化学反应,在基板表面沉积形成薄膜。成膜种类:SiO2,SiNx ,SiON。等离子增强型,膜质好,均匀性高,Load-lock,托盘式,多基板尺寸,2inch-8inch 兼容。

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0512-86669111-8033(张小姐)
13913550251(沈先生)



产品特性 / Product characteristics



• 等离子增强型化学气相沉积设备

• 用于SiO2,SiN的高精度薄膜沉积

• 膜层应力稳定,可调范围广泛

• 可换托盘式,基板尺寸切换简便

• 2~12inch,方片,未定型片完美兼容



产品应用 / Product application



• 功率器件,LED,光通信/传感器

• 高校及研究所等


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