刻蚀设备:NLD-5700

对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700是搭载了磁性中性线(NLD- neutral loop discharge)等离子源的量产用干法刻蚀装置。(此爱发科独创的NLD技术设备可实现产生低压、低电子温度、高密度的等离子)

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13913550251(沈先生)



产品特性 / Product characteristics



• 在洁净房内作业可扩张为双腔。(可选配腔室:NLD、有磁场ICP、CCP或者去胶室)

• NLD为时间空间可控的等离子,因此设备干法清洁容易

• 腔体维护简便

• 从掩模刻蚀到石英、玻璃刻蚀,可提供各类工艺解决方案

• 专门的半导体技术研究所会提供万全的工艺支持体制



产品应用 / Product application



• 光学器件(光衍射格子、変调器、光开关等等)

• 凹凸型微透镜

• 流体路径作成或光子学结晶


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