网站首页
关于爱发科
关于爱发科
产品中心
产品中心
新闻中心
新闻中心
联系我们
联系我们
人才招聘
其他
其他
首页 > 产品中心
机种分类 行业分类
  • 溅射设备：CS-200z CS-200z
    在真空条件下，氩气在DC或RF作用下产生氩离子，高能的氩离子撞击靶材产生溅射。溅射出的原子或分子离开靶材，沉积在基板表面，形成薄膜。成膜种…
    了解详情
  • 溅射设备：ULDIS系列 ULDIS系列
    1.对于光学薄膜的溅射装置乌尔迪斯布系列，间模式®在数字溅射装置进化技术，实现了光学薄膜的一个更高的质量。2.与美国JDSUniphase达成新的许可协议…
    了解详情
  • 刻蚀设备：INE-3085 INE-3085
    面向LED、Powerdevice、MEMS等诸多领域开发，搭载静电吸附系统，采用更大的静电托盘，较常规设备拥有更高的刻蚀速率和更大的产能。同时搭载ULVAC专利的…
    了解详情
  • 刻蚀设备：NE-550EXz NE-550EXz
    在高真空条件下，通过RF高频放电，产生等离子体，在偏压的作用下，通过物理和化学的作用，对特定的材料去除。蚀刻材料：金属，GaN，InP，SiO2，Si，…
    了解详情
  • 刻蚀设备：NE-950EXz NE-950EXz
    在高真空条件下，通过RF高频放电，产生等离子体，在偏压的作用下，通过物理和化学的作用，对特定的材料去除。蚀刻材料：金属，GaN，InP，SiO2，Si，…
    了解详情
  • 刻蚀设备：NE-5700 NE-5700
    量产用刻蚀设备NE-5700是可以对应单腔及多腔、重视性价比拥有扩展性的刻蚀设备，注重性价比。
    了解详情
  • 刻蚀设备：NLD-570 NLD-570
    研究开发向NLD干法刻蚀设备NLD-570，是搭载了爱发科独创的磁性中性线（NLD-neutralloopdischarge）等离子源的装置，此NLD技术可实现产生低压、低电子温度、…
    了解详情
  • 刻蚀设备：NLD-5700 NLD-5700
    对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700是搭载了磁性中性线（NLD-neutralloopdischarge）等离子源的量产用干法刻蚀装置。（此爱发科独创的NLD技术设…
    了解详情
  • PECVD：CC-200Cz CC-200Cz
    在真空条件下，通过射频放电，让气体活化发生化学反应，在基板表面沉积形成薄膜。成膜种类：SiO2，SiNx，SiON。等离子增强型，膜质好，均匀性高，Lo…
    了解详情
  • PECVD：CX-500z CX-500z
    在真空条件下，通过射频放电，让气体活化发生化学反应，在基板表面沉积形成薄膜。成膜种类：SiO2，SiNx，SiON。等离子增强型，膜质好，均匀性高，Lo…
    了解详情
  • 蒸发设备：蒸发Ei系列 ei-5z 蒸发Ei系列 ei-5z
    1.Batch式高真空蒸发设备ei系列是可对应在基板上成金属膜或氧化物膜的设备。可通过操作面板进行集中控制，实现抽真空、成膜等作业内容的集中自动…
    了解详情
  • 蒸发设备：蒸发Ei系列 ei-7z 蒸发Ei系列 ei-7z
    1.Batch式高真空蒸发设备ei系列是可对应在基板上成金属膜或氧化物膜的设备。可通过操作面板进行集中控制，实现抽真空、成膜等作业内容的集中自动…
    了解详情
  • 蒸发设备：蒸发Ei系列 ei-501z 蒸发Ei系列 ei-501z
    1.Batch式高真空蒸发设备ei系列是可对应在基板上成金属膜或氧化物膜的设备。可通过操作面板进行集中控制，实现抽真空、成膜等作业内容的集中自动…
    了解详情
  • 蒸发设备：蒸发Esz系列 Esz-R-1/2 蒸发Esz系列 Esz-R-1/2
    Batch式高真空蒸发设备ei系列是可对应在基板上成金属膜或氧化物膜的设备。可通过操作面板进行集中控制，实现抽真空、成膜等作业内容的集中自动化…
    了解详情
CopyRight 2020-2025 Inc. 爱发科真空技术（苏州）有限公司   苏ICP备案号12004487号-1　网站地图