产品中心_爱发科真空技术（苏州）有限公司

蒸发设备：蒸发Ei系列 ei-5z

1.Batch式高真空蒸发设备ei系列是可对应在基板上成金属膜或氧化物膜的设备。可通过操作面板进行集中控制，实现抽真空、成膜等作业内容的集中自动…

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蒸发设备：蒸发Ei系列 ei-7z

1.Batch式高真空蒸发设备ei系列是可对应在基板上成金属膜或氧化物膜的设备。可通过操作面板进行集中控制，实现抽真空、成膜等作业内容的集中自动…

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蒸发设备：蒸发Ei系列 ei-501z

1.Batch式高真空蒸发设备ei系列是可对应在基板上成金属膜或氧化物膜的设备。可通过操作面板进行集中控制，实现抽真空、成膜等作业内容的集中自动…

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蒸发设备：蒸发Esz系列 Esz-R

Batch式高真空蒸发设备ei系列是可对应在基板上成金属膜或氧化物膜的设备。可通过操作面板进行集中控制，实现抽真空、成膜等作业内容的集中自动化…

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蒸发设备：蒸发Esz系列 Esz-X

Batch式高真空蒸发设备Esz系列是可对应在基板上成金属膜或氧化物膜的设备。可通过操作面板进行集中控制，实现抽真空、成膜等作业内容的集中自动化…

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改造：上位通信系统

上位通信改造可以为工厂自动化升级，设备联网，远程监控系统优化，实现“上位机-下位机”或“上位机-云端平台”的高效、可靠数据交互。

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零部件：冷泵

冷泵

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零部件：膜厚仪

采用新的测量方法，速率稳定性显着提高。能力(CI值)测量提高了晶体板的异常检测能力。出色的薄膜厚度和速率分辨率(0.0018À@5MHz)使其成为低速率沉积…

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零部件：真空计

实现了尺寸的大幅缩小(控制器体积缩小56%)，成为同级别最小的产品之一，通过与PC/智能手机的连接，可以进行设定点设置、状态确认等。

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零部件：检漏仪

维护面板可以轻松拆卸，轻松接触到每个部件，还提供操作程序注释画面除氦气外，还可以检测氢气

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零部件：电子束蒸发源

电子束蒸发源

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溅射设备：SMD 系列

这是拥有1400台以上销售业绩的SMD型号纵型inline溅射镀膜设备。主要用于大型显示器领域，可沉积金属膜、ITO、IGZO、介电膜等薄膜。

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溅射设备：SCH 系列

适用于多种材料（ITO、Ti、Cr、Ni、Cu、In、Ag、CuGa、Mo等）的成膜，可对应多种尺寸基板。通过采用ULVAC独有的传送系统，实现了优异的成本效益。是兼具…

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溅射设备：真空溅射镀膜机 Load-lock type Sputtering Equipment CS-200z

真空溅射镀膜机Load-locktypeSputteringEquipmentCS-200z

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溅射设备：QAM-4W

自动成膜工艺对应、交互成膜、无人运转、远程控制。设备采用模块化设计和制造，用户可以根据使用目的和预算，进行灵活组合。

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溅射设备：ULDIS系列

1.对于光学薄膜的溅射装置乌尔迪斯布系列，间模式®在数字溅射装置进化技术，实现了光学薄膜的一个更高的质量。2.与美国JDSUniphase达成新的许可协议…

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溅射设备：SIV-200

可沉积多种材料，并且能够适配各类衬底。该设备配备了ULVAC专有的传输系统，具有出色的性价比，可为多种应用提供高度通用的解决方案，是一款理想…

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刻蚀设备：INE-3085

面向LED、Powerdevice、MEMS等诸多领域开发，搭载静电吸附系统，采用更大的静电托盘，较常规设备拥有更高的刻蚀速率和更大的产能。同时搭载ULVAC专利的…

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刻蚀设备：NE-550EXz

在高真空条件下，通过RF高频放电，产生等离子体，在偏压的作用下，通过物理和化学的作用，对特定的材料去除。蚀刻材料：金属，GaN，InP，SiO2，Si，…

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刻蚀设备：NE-950EXz

在高真空条件下，通过RF高频放电，产生等离子体，在偏压的作用下，通过物理和化学的作用，对特定的材料去除。蚀刻材料：金属，GaN，InP，SiO2，Si，…

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